Все новости от 16 января 2001 г.

Производители микропроцессоров вышли на участок дороги, ведущий к 10 ГГц

Компания Extreme Ultraviolet LLC, совместное предприятие, занимающееся разработкой технологии производства микросхем следующего поколения, построила первую действующую установку, основанную на технологическом процессе вакуумно-ультрафиолетовой литографии (extreme ultraviolet lithography, EUV). Это первая опытная установка для нанесения отпечатков топологии микросхем на кремниевые пластины, которая положит начало новому классу производственного оборудования, способного производить процессоры с тактовой частотой 10 ГГц и выше. Через несколько месяцев, по окончании серии испытаний, EUV LLC приступит к опытному производству.

«К 2004-2005 году обычная литография упрется в стену, — комментирует бизнес-менеджер EUV LLC Крис Филиппи (Chris Philippi). — EUV — это важный прорыв, который позволит нам не отстать от закона Мура». Метод литографии, используемый в настоящее время, обеспечит уменьшение размера элементов микросхем еще на одну или две ступени — до 0,1 мкм. Сейчас производители микросхем осваивают процесс с технологической нормой 0,13 мкм. Дальнейшая миниатюризация кристаллов потребует новой технологии литографии с более короткой длиной волны излучения. В литографии на основе глубокого ультрафиолета (deep ultraviolet lithography) используется излучение с длиной волны 240 нм. Волны EUV гораздо короче.

В объединение EUV LLC вошли научные организации, такие как лаборатории Lawrence Livermore и Sandia National, и производители микросхем: Intel, AMD, Micron Technology и Infineon Technologies. Испытания должны завершиться в 2002 году, после чего EUV LLC приступит к созданию к 2003 году опытных производственных установок, а в 2005 году начнется выпуск полноценного производственного оборудования. Intel воспользуется технологией EUV для изготовления новых транзисторов, способных повысить быстродействие микросхем до 10 ГГц.

EUV LLC трудится в параллель с такими производителями технологического оборудования, как Silicon Valley Group и ASM Lithography Holdings. Цель объединения — ускорить промышленное освоение EUV. Первое такое оборудование будет применяться для производства микросхем с элементами размером 0,07 мкм (70 нм), что примерно в тысячу раз меньше толщины человеческого волоса. В современных микропроцессорах, таких как Pentium III и Athlon, используется технологическая норма 0,18-мкм.

Конец века кремния
Технология EUV позволит довести технологическую норму до 30 нм. На этом возможности кремниевых транзисторов в их современном виде исчерпываются. Лидером среди конкурирующих производственных процессов следующего поколения эксперты считают EUV. Ряд компаний, включая IBM, разрабатывают также технологию литографии на основе электронного луча (e-beam). Она существенно отличается от технологии EUV: элементы транзисторов не проектируются на кристалле послойно, а вырисовываются в отдельности электронным лучом. Недостаток e-beam — низкая производительность. У EUV, конечно, тоже есть свои технические проблемы, но они разрешимы. EUV LLC утверждает, что это единственный способ не отстать от закона Мура и удовлетворить спрос на электронные микросхемы. Проектная производительность EUV составляет 80 пластин диаметром 300 мм в час. Современное оборудование производит примерно столько же 200-мм пластин.

Технология e-beam пока намного медленнее — примерно одна пластина в час. Однако и ее продолжают совершенствовать, в том числе IBM. Попытка же создать компанию, специализирующуюся на тончайшей технологии электронно-лучевой литографии (electron-beam projection lithography, EPL), как сообщает журнал EE Times, не удалась. «Три-четыре года назад многие вообще сомневались в работоспособности EUV, — говорит аналитик Лайнли Гуиннап (Linley Gwennap). — Но на сегодняшний день это самая перспективная технология».

 В продолжение темы:

Обсуждение и комментарии

	Dmitriy - striverimail.ru 17 Jan 2001 10:02 AM
А я то уже думал, что Microsoft загнется вместе с Intel`ом. Похоже, нет. Еще лет 15 протянет.
	Eugene - whoknowanywhere.net 17 Jan 2001 2:08 PM
Почему это Intel должен загнуться? Тем более вместе с MS :) ?
	Sergey 18 Jan 2001 10:24 AM
"Вакуумный ультрофиалентовый диапазон спектра " - звучит круто по научному - на самом деле полная чушь. Меня поражает безграмотность некоторых журналистов, не знающих о чем они пишут, но делающих при этом умное лицо... Придурки...
	Dmitry V. Komarov - dkomarovchat.ru 18 Jan 2001 12:52 PM
Весьма любопытно, но я обладаю информацией о создании ренгеновской линзы большого размера, что является собственно основой подобного оборудования, это еще более короткие волны, но скоро, насколько я понимаю, наступит технологический предел самого принципа фотолитографии, начнет сказываться размер молекулы фоторезистивного слоя.