Все новости от 20 февраля 2006 г.

IBM предлагает изготавливать чипы в ванной

Достижение основано на усовершенствованной, экспериментальной версии иммерсионной литографии. При этом методе кремниевые пластины погружаются в дистиллированную воду. Лазерный луч, проходящий сквозь сложную маску, наносит на пластину микроскопический рисунок, который затем проявляется химическим способом. Вода преломляет свет лучше воздуха, что позволяет достигать более высокого разрешения и меньших размеров. Коммерческое применение иммерсионной литографии должно начаться в относительно близком будущем.

В системе IBM луч лазера расщепляется на два, после чего инструмент, называемый Nemo, соединяет оба луча, создавая интерференционную картину, что позволяет точнее прочерчивать линии, чем при использовании обычной иммерсионной литографии. Кроме того, вода в системе заменена специальной жидкостью, разработанной компанией JSR Micro, и применяются особая призма и специальная система фоторезиста. «Мы можем достигать размеров менее 30 нм», — заверил менеджер по литографическим материалам лаборатории Almaden Research Center IBM Research Роберт Аллен.

Если система Nemo когда-нибудь станет коммерческой, данный процесс может вдохнуть новую жизнь в 193-нм системы литографии, установленные сегодня. Основанные на этих стандартах машины — которые могут стоить по $15 млн и доставляются на специальных гусеничных трейлерах — эксплуатируются уже много лет. Они называются так потому, что используют лазер с длиной волны 193 нм. Заменить эти системы машинами на базе новых технологий будет нелегко. Несколько лет назад IBM была одним из главных сторонников рентгеновской литографии. А Intel — при участии Advanced Micro Devices и в меньшей степени IBM — пропагандировала вакуумно-ультрафиолетовую литографию (Extreme Ultra Violet, EUV).

Длина волны EUV составляет всего несколько диаметров атома. Однако создание таких систем задержалось на годы. Сторонники EUV ожидали появления оборудования для изготовления чипов с 65-нм проводниками еще в 1997 году, но такие чипы начали изготавливаться только теперь. Технология EUV по-прежнему остается в лабораториях. Хотя Intel может восспользоваться ею для изготовления 32-нм чипов, которые должны появиться где-то в 2009-2010 годах, ученые считают маловероятным начало применения EUV до следующего поколения чипов с технологической нормой 22 нм.

Nemo вселяет в IBM уверенность, что иммерсионная литография со 193-нм системами может применяться для изготовления 32-нм чипов. Однако для достижения 22 нм потребуется лучшая жидкость, фоторезист из других материалов и линзы из вещества, которое еще только предстоит найти, рассказал Аллен.

IBM продемонстрирует свои результаты на конференции Microlithography 2006, которая проходит в Сан-Хосе, штат Калифорния, на этой неделе. 

 Предыдущие публикации:

Обсуждение и комментарии

	M&M's 21 Feb 2006 9:07 AM
Если IBM начнет изготавливать чипсы, это наверное даже не будет сменой профиля деятельности, лингвистически, во всяком случае
	bash 22 Feb 2006 1:38 AM
2M&M's Дорогой торарщ! IBM, как и SUN и HP уже не одно десятилетие изготавливает чипы. Кстати история IBM произростает в те годы где чипов не было, не использовали кремний, а вообще компы (некие подобия вычислительных машин) использовали для подсчета голосов в США, именно тогда и стала основываться эта корпорация. Intel, вообще считается "молодой" компанией и IBM могла не допустить "молодые" компании в свой рынок, но, увы...