|
 Все новости от 28 января 2007 г.
Производители процессоров вступают в эру металлов
Индустрия микропроцессоров меняет конструкцию транзисторов, чтобы начать новый виток гонки за быстродействием.
Почти 40 лет производители микросхем изготавливали затворы транзисторных ключей из кремния. Теперь же Intel, IBM и AMD планируют использовать для этой цели новые материалы, которые значительно уменьшат ток утечки и позволят повысить производительность чипов.
Кремниевую долину переименовывать не придется, так как основным материалом для микросхем остается кремний. Однако затворы транзисторов становятся металлическими, а для тонкой изолирующей прослойки между затвором и каналом, так называемого «подзатворного оксида», тоже будут применяться новые материалы.
Intel планирует внести эти изменения в семейство процессоров Penryn, которое планируется выпустить в этом году, одновременно с переходом на 45-нм технологию. В четверг компания продемонстрировала группе журналистов и аналитиков серверы, построенные на опытных образцах этих чипов.
IBM и AMD при переходе на 45-нм технологический процесс в 2008 году тоже планируют использовать металлические затворы и подзатворные оксиды с высокой диэлектрической проницаемостью (high-k). Компании заключили соглашение о сотрудничестве в сфере разработки новых методов производства полупроводников.
High-k диэлектрики позволяют сделать подзатворный слой толще, уменьшив тем самым ток утечки транзистора. Однако они взаимодействуют с затвором из поликремния, что препятствует достижению высокого быстродействия. Для решения этой проблемы затвор выполняется из металла.
Главная сложность заключается в выборе правильного сочетания металлов и диэлектрика. Intel изготавливает диэлектрик на основе гафния.
Она уже опробовала металлические ключи с high-k диэлектриком в микросхемах памяти SRAM (static RAM), которые Intel производят по 45-нм технологии. Пленка из диэлектрика создается методом атомного напыления —материал наносится последовательными слоями толщиной всего в один атом.
AMD и IBM планируют использовать для изготовления своих процессоров так называемый метод иммерсионной литографии, при котором дорожки наносятся на пластину, когда она погружена в дистиллированную воду. Intel пока придерживается существующей технологии, но, возможно, воспользуется иммерсионной литографией в будущем для изготовления 32-нм чипов.
 Предыдущие публикации:
В продолжение темы:
| 
